儀器介紹：     

OBLF QSN750-II 型儀器為通用型多基體火花直讀光譜儀，可對(duì)固體金屬材料作成分分析，
可進(jìn)行氮及固溶物分析，多達(dá)60個(gè)分析通道。光學(xué)系統(tǒng)采用PMT檢測(cè)器，光譜范圍覆蓋多數(shù)典型材料。儀器裝備有氬氣沖洗火花臺(tái)，開(kāi)放式設(shè)計(jì)火花臺(tái)適合不同形狀和尺寸的樣品分析。該儀器是冶金、鋼鐵、鑄造、有色行業(yè)實(shí)驗(yàn)室分析儀器。

技術(shù)參數(shù)：

1.光學(xué)系統(tǒng)的焦距750mm, 光柵刻線(xiàn)數(shù)2400條/毫米,一級(jí)譜線(xiàn)色散率為0.55nm/mm。
2.光室采用真空保護(hù)，真空泵運(yùn)轉(zhuǎn)周期小于5%
3.火花放電頻率可到1000赫茲，分析一個(gè)鋼鐵樣品為15秒
4.操作溫度：12--35℃
5.WINDOWS操作系統(tǒng)
6.長(zhǎng)1040mm x 寬900mm x 高1300mm
7.重量:550kg

主要特點(diǎn)：

1.免維護(hù)的激發(fā)光源采用了新的GDS（Gated discharge source脈沖放電光源）技術(shù)、固態(tài)電路、無(wú)輔助電極。
2.由計(jì)算機(jī)控制真空泵的開(kāi)啟，真空泵的開(kāi)啟時(shí)間小于儀器運(yùn)行時(shí)間的5%。
3.光學(xué)器件、積分板及控制電路均置于真空光室中。在真空氣氛的保護(hù)下，可不受外界環(huán)境變化的影響。
4.激發(fā)弧焰由透鏡直接導(dǎo)入真空光室，消除光路損耗。
5.自清潔開(kāi)放式激發(fā)臺(tái)，沒(méi)有靜態(tài)氬，在等待樣品分析時(shí)可以不用氬氣保護(hù)，減少了氬氣的消耗量。
6.對(duì)于多基體分析,無(wú)需更換激發(fā)板即可分析不同基體的材料.